壓電平移臺采用機構放大設計原理，中間具有通孔，非常適用于近場掃描、共焦顯微等應用。該系列掃描臺XY軸程可達500μm，Z軸直線運動行程可達800μm。中間通孔適配器為標準螺紋牙W0.8×1／36＂，便于與顯微鏡集成安裝。可匹配蔡司、尼康、奧林巴斯、徠卡等多種標準鏡頭。
壓電平移臺內部采用有限元分析（FEA）優化的線切割撓曲鉸鏈結構。FEA使其設計具有盡可能高的剛度，并使線性和角度跳動小化。開環、閉環可選，真空版本可選。
納米壓印過程中壓電納米平臺及促動器可以提供穩定的位移輸出與控制操作，精度可以達到納米級別，同時可以提供較大的出力和快速的響應，壓電納米平臺是納米壓印技術的重要執行元件。
納米壓印技術基本思想是通過轉移介質將掩模板上的圖形轉移到基板上，轉移介質多使用聚合物薄膜（如PMMA、PDMS等）。納米壓印工藝包括圖形復制和圖形轉移兩大步驟，掩模板在壓力的作用下壓進轉移介質，經一段時間后轉移介質將納米腔穴充分填充，隨之釋放壓力進行固化脫模，即可在基板上形成輔助轉移圖形。
在圖形復制過程結束之后，首先需要采用各向異性刻蝕或者反應離子刻蝕（RIE）等方法去除掉基板上的抗蝕劑殘余層，然后開始圖形轉移過程。轉移圖形可以通過刻蝕或者剝離（淀積、溶脫）方法獲得。
在刻蝕過程中，基板上抗蝕劑材料的圖形結構被當作掩蔽層，然后采用各向異性刻蝕等方法對基板進行刻蝕，這樣就將圖形轉移到基板上。剝離由淀積和溶脫兩個步驟組成，先在抗蝕劑的表面鍍上一層金屬薄膜，然后用有機溶劑將抗蝕劑和其表面的金屬薄膜溶解掉，基板剩余的金屬薄膜形成了與掩模板上圖形一樣的微結構，即獲得轉移圖形。
